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ウルトラマイクロ・ニッコール

ウルトラマイクロニッコールはIC用フォトマスク製作専用レンズとして開発されました。
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75年史によりますと、昭和36年に開発に取り組み始め、使用光e線(546.1nm)単色、撮影倍率1/30、画面サイズ20mm角をカバー、解像力500本/mm以上の仕様で進められ、これに基づいて完成したのが画像上のウルトラマイクロ・ニッコール105mmF2.8だったそうです。
これは昭和37年8月に完成しました、ただ、初期の仕様には及ばなかったものの400本/mmの解像力が得られたとあります。

その後、昭和39年11月、顕微鏡の40倍対物レンズを元に画像下のf=29.5mm 1:1.2 Ultra-Micro-Nikkorが完成しました。
こちらは、多層膜コートを初めて採用し、撮影倍率1/25、e線単色仕様、画面サイズ2mmで1260本/mmの世界最高の解像力(当時)を持った物でした。
当時、これら一連のマイクロ・ニッコール、ウルトラマイクロ・ニッコールは脇本善司氏の設計とのことです。

他のウルトラマイクロ・ニッコールには、
30mmF1.2(3mmφ 1/25倍 1000本/mm)
28mmF1.8(4mmφ 1/10倍 700本/mm)
55mmF2(12mmφ 1/4倍 500本/mm)
125mmF2.8(28mmφ 1/25倍 400本/mm)
155mmF4(80mmφ 1/10倍 200本/mm)
が有ったそうです。

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